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简介
电子级超纯水设备一般指出水指标符合GB11446(国标电子级水)要求,用于电子与半导体工艺过程制取高纯水的水处理设备。其一般采用反渗透工艺产水再次提纯而得。
用途
可用于电子、半导体工艺用水制取。
产水标准
1:符合GB/T 11446.1要求
设备工艺
1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象 (≥18MΩ.CM)(传统工艺)
2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)
3、预处理→反渗透→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)
设备特点
1、工艺复杂、多变。电子级超纯水产水水质要求极高,其工艺设计需根据原水水质与产水水质要求进行相应工艺设计。
2、设备材质要求较高。电子超纯水设备不同的材质其污染物析出水平差别较大,需根据工艺要求对各段制水材质进行分别配置。
应用领域
半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件半成品、成品清洗。
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