简介

电子级超纯水设备一般指出水指标符合GB11446（国标电子级水）要求，用于电子与半导体工艺过程制取高纯水的水处理设备。其一般采用反渗透工艺产水再次提纯而得。

用途

可用于电子、半导体工艺用水制取。 
产水标准
1：符合GB/T 11446.1要求
设备工艺
1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象 （≥18MΩ.CM）(传统工艺) 

2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥18MΩ.CM）

3、预处理→反渗透→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥15MΩ.CM）

设备特点
1、工艺复杂、多变。电子级超纯水产水水质要求极高，其工艺设计需根据原水水质与产水水质要求进行相应工艺设计。

2、设备材质要求较高。电子超纯水设备不同的材质其污染物析出水平差别较大，需根据工艺要求对各段制水材质进行分别配置。

应用领域

半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件半成品、成品清洗。