

水驻极超纯水设备,是一种集成反渗透(RO) 与水驻极电去离子(Water Polarized EDI) 核心技术的复合型超高纯水制备系统。它专为去除水中所有导电介质(离子)及绝大部分不离解的胶体、气体和有机物(TOC)而设计,能够持续、稳定地生产电阻率高达 18.25 MΩ·cm(@25°C) 的超纯水。
极致水质:产水电阻率稳定在18.25 MΩ·cm,TOC含量通常低于5 ppb,颗粒物(>0.1μm)含量趋近于零。
绿色环保:核心纯化阶段(水驻极EDI)无需使用任何酸碱化学试剂进行再生,无废酸废碱排放,符合绿色生产理念。
运行经济:相较于传统的离子交换混床,免除了再生药剂、人工及危险废弃物处理成本,长期运行费用显著降低。
连续稳定:模块化设计,可7x24小时连续运行,产水水质稳定,无周期性水质波动。
智能控制:全自动PLC控制,具备实时水质监测、流量调节、故障报警与保护功能,可实现无人值守。
紧凑高效:集成化设计,占地面积远小于传统“RO+混床”系统,空间利用率高。
本设备采用 “多级预处理 + RO脱盐 + 水驻极EDI精制 + 终端精处理” 的完整工艺链。
1 预处理系统
目的:确保进入RO膜的水质符合要求(SDI<5,余氯<0.1ppm,硬度达标)。
单元:多介质过滤器(去除悬浮物)、活性炭过滤器(吸附余氯、有机物)、软化或加阻垢剂(防垢)、精密保安过滤器(1-5μm)。
2 反渗透(RO)脱盐单元
目的:去除水中约97-99%的溶解性盐分、有机物、胶体及微生物,产水电导率通常降至1-20 μS/cm,是EDI单元的必要前提。
3 水驻极EDI精制单元(核心)
目的:将RO产水中的残余离子深度去除至ppb级,产水电阻率提升至10-17 MΩ·cm。
配置:通常设计为多模块并联,具备单独清洗回路。
4 终端精处理单元
目的:对EDI产水进行最终抛光,确保达到用水点的最高规格要求。
单元:
紫外杀菌器(185nm/254nm) :降解残余TOC,杀菌。
抛光混床(可选):作为终极保障,将水质稳定在18.25 MΩ·cm。